- Imec 与 ASML 合作，利用 ASML 的新型 High NA 工具在计算机芯片制造方面取得重大突破，成功印制出与当前商用最佳电路尺寸相当甚至更小的电路。
- 这一进展预计将使领先芯片制造商在未来几年能够生产更小、更快的芯片，而 ASML 的 High NA 工具将在逻辑和存储技术的尺寸微缩中发挥关键作用。
我们的看法
Imec 在半导体技术方面取得了重大进展，利用 ASML 的新型 High NA 工具成功印制出尺寸等于或小于当前商用标准的电路。这一进步将在近期助力领先芯片制造商生产更小、更快的芯片，而 ASML 的工具在逻辑和存储技术的持续微型化中起着关键作用。
-Rae Li，BTW 记者
事件回顾
比利时微电子研究中心（Imec）是全球领先的半导体研发机构之一，利用 ASML 最新的价值 3.89 亿美元的芯片光刻机，在计算机芯片制造领域取得了多项突破。Imec 已成功通过单次操作印制出尺寸等于或小于当前商业生产中最先进逻辑和存储芯片电路的电路。这些突破表明，领先的芯片制造商将能够按计划在未来几年使用该工具制造更小、更快的芯片。
ASML 是计算机芯片制造商的主要设备供应商，其在光刻系统领域的主导地位源于其庞大的光刻机，这些机器使用光束来创建电路。High NA 工具能够以更少的步骤印制更小的特征，这将为芯片制造商节省成本，并有助于证明该工具高昂价格的合理性。英特尔已经购买了前两台 High NA 工具，第三台预计将在今年晚些时候由为 Nvidia 和 Apple 制造芯片的台积电购买。其他订购 High NA 工具的芯片制造商包括三星电子以及存储芯片制造商 SK 海力士和美光。这些进展表明，未来几年 High NA 工具将在缩小逻辑和存储技术尺寸方面发挥关键作用。
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为何重要
随着电子设备对性能和能效的要求不断提高，芯片制造商需要不断缩小芯片尺寸以满足这些需求。Imec 和 ASML 的突破利用 High NA 工具成功印制出尺寸等于或小于当前商业生产中最先进逻辑和存储芯片电路的电路，为芯片技术的未来铺平了道路。这不仅预示着未来芯片将具有更高的性能和更低的功耗，还意味着电子设备可以变得更薄、更便携，同时保持或提升其功能和性能。
High NA 工具的推出及其在芯片制造中的应用将对整个半导体供应链产生深远影响。作为光刻系统的主要供应商，ASML 的技术进步直接关系到全球芯片制造商的生产能力和创新速度。High NA 工具的高精度印制能力将帮助芯片制造商节省成本并提高生产力。