• Samsung планирует с 2028 года внедрить High NA в массовое производство DRAM, а всё больше клиентов ASML подтверждают планы по использованию этой технологии
  • Для более крупных 12-дюймовых фотошаблонов действует отдельный график, а первые системы High NA продолжат использовать нынешний формат фотошаблонов

Факты

По сообщению Reuters от 14 сентября, ведущие производители чипов всё чаще подтверждают планы по использованию литографических систем ASML High NA. Эти системы обеспечивают более высокое разрешение, чем существующее EUV-оборудование, и стоят около 400 млн долларов каждая — примерно вдвое дороже нынешних EUV-систем.

8 сентября Samsung и ASML заявили, что расширят работу над High NA; Samsung планирует с 2028 года внедрить технологию в массовое производство DRAM. Компании также разрабатывают более крупный 12-дюймовый формат фотошаблонов, рассчитанный на более крупные компоновки чипов и призванный сократить необходимость стыковать отдельно отпечатанные области.

У этих разработок разные сроки. Первые производственные системы High NA продолжат использовать существующий шестидюймовый формат фотошаблонов. По данным Reuters, пилотное производство с более крупными фотошаблонами запланировано на 2031 год, а системы с их поддержкой — на 2033 год.

Оценка

В 2028 году Samsung планирует внедрить High NA в массовое производство DRAM; это станет одной из первых возможностей проверить, оправдывает ли технология свою значительно более высокую стоимость в серийном производстве. Литографическая система стоимостью около 400 млн долларов имеет смысл только в том случае, если позволяет сэкономить достаточно времени или снизить сложность на других этапах производства. Если Samsung сможет сократить число этапов формирования рисунка без чрезмерного снижения производительности или выхода годной продукции, более высокие затраты на оборудование будет проще компенсировать.

Насколько успешно это сработает, будет зависеть от конкретного чипа и технологического процесса.

Более крупный фотошаблон разрабатывается по отдельному графику. Samsung может начать использовать High NA с нынешним шестидюймовым форматом фотошаблонов, поэтому планы компании по DRAM на 2028 год не зависят от готовности 12-дюймовой версии. Производители чипов смогут внедрять технологию поэтапно, не дожидаясь реализации всей дорожной карты.

Для читателей BTW подтверждённые планы клиентов показывают, что High NA приближается к регулярному применению в производстве. Более убедительные доказательства появятся на самой производственной площадке: сможет ли Samsung сократить число технологических операций, обеспечить стабильное прохождение пластин по линии и сохранить достаточный выход годной продукции, чтобы инвестиции имели экономический смысл.

За чем следить

Следующим крупным испытанием станет запланированный на 2028 год переход Samsung к массовому производству DRAM. После внедрения High NA в производство следует следить за данными о сокращении числа технологических операций, производительности и выходе годной продукции. Ход работ над 12-дюймовыми фотошаблонами нужно отслеживать отдельно с учётом ориентиров из сообщения Reuters: пилотного производства в 2031 году и появления систем с их поддержкой в 2033 году.