• A Samsung planeja levar o High NA à produção em volume de DRAM a partir de 2028, enquanto a ASML conquista mais compromissos de clientes
  • As fotomáscaras de 12 polegadas, maiores, seguem em um cronograma separado, com os primeiros sistemas High NA continuando a usar o formato atual de máscara

O fato

As máquinas de litografia High NA da ASML estão conquistando compromissos de grandes fabricantes de chips, informou a Reuters em 14 de setembro. Os sistemas oferecem resolução mais fina do que os equipamentos EUV existentes e custam cerca de US$ 400 milhões cada, aproximadamente o dobro do preço das ferramentas EUV atuais.

A Samsung e a ASML disseram em 8 de setembro que ampliarão seus trabalhos com High NA, com a Samsung planejando introduzir a tecnologia na produção em volume de DRAM a partir de 2028. As empresas também estão desenvolvendo um formato maior de fotomáscara de 12 polegadas, destinado a suportar layouts de chips maiores e reduzir a necessidade de unir áreas impressas separadamente.

Esses desenvolvimentos seguem cronogramas diferentes. Os primeiros sistemas High NA de produção continuarão usando o formato existente de máscara de seis polegadas. A Reuters informou uma meta de 2031 para produção piloto com as máscaras maiores, seguida por sistemas que as suportem em 2033.

A avaliação

O lançamento de DRAM pela Samsung em 2028 será uma das primeiras oportunidades de verificar se o High NA consegue justificar seu preço muito mais alto na produção em volume. Uma ferramenta de litografia de cerca de US$ 400 milhões só faz sentido se economizar tempo ou complexidade suficientes em outras etapas da produção. Se a Samsung puder eliminar etapas de litografia sem sacrificar demais a produtividade ou o rendimento, o custo mais alto do equipamento poderá ser mais fácil de absorver. O resultado dependerá do chip específico e do processo de fabricação.

A fotomáscara maior segue um cronograma separado. A Samsung pode começar a usar o High NA com o formato atual de máscara de seis polegadas, de modo que seus planos de DRAM para 2028 não dependam da prontidão da versão de 12 polegadas. Os fabricantes de chips podem, portanto, introduzir a tecnologia em etapas, em vez de esperar pelo roadmap completo.

Para os leitores da BTW, os compromissos de clientes mostram que o High NA está se aproximando da produção regular. A evidência mais forte virá da própria fábrica: se a Samsung consegue reduzir etapas de processo, manter as wafers fluindo pela linha e manter rendimento suficiente para tornar o investimento compensador.

O que acompanhar

O movimento da Samsung rumo à produção em volume de DRAM em 2028 é o próximo grande teste. Fique atento a evidências de redução de etapas de processo, produtividade e rendimento assim que o High NA entrar em produção. O progresso das máscaras de 12 polegadas deve ser acompanhado separadamente, contra as metas reportadas de produção piloto em 2031 e sistemas de suporte em 2033.