• Samsung планирует внедрить литографию High NA от ASML в массовое производство DRAM с 2028 года
  • Первые серийные системы будут использовать нынешний формат фотошаблонов, а отдельная программа с более крупными шаблонами, как ожидается, займёт ещё несколько лет

Факт

Samsung планирует применять экстремальную ультрафиолетовую литографию High NA от ASML в массовом производстве DRAM с 2028 года, поскольку производители чипов готовятся вводить более новое оборудование в эксплуатацию. Reuters сообщило 14 сентября о более широких обязательствах клиентов перед этой технологией и оценило стоимость системы High NA примерно в 400 млн долларов — примерно вдвое дороже существующих EUV-установок.

High NA даёт производителям чипов более высокое разрешение при печати рисунков на пластинах. Samsung и ASML также работают над более крупным 12-дюймовым фотошаблоном, который должен поддерживать более крупные компоновки чипов и снизить необходимость сшивания отдельно напечатанных участков. Эти два направления не совпадут по срокам. Ожидается, что первые серийные системы High NA будут использовать существующий формат шестидюймовых шаблонов. По данным Reuters, пилотное производство с более крупными шаблонами запланировано на 2031 год, а системы последуют в 2033-м.

Оценка

Цена установки имеет значение, но производителей чипов больше волнует то, что она меняет внутри фабрики. High NA проще оправдать, если её более точная печать устраняет дополнительные литографические шаги или упрощает процесс, который иначе потребовал бы нескольких проходов.

Это ещё предстоит доказать на реальных продуктах. Установка за 400 млн долларов не становится автоматически дешевле в эксплуатации лишь потому, что она более совершенна. Samsung потребуется увидеть, сколько технологических шагов можно убрать, сколько полезной продукции машина выдаёт и сколько готовых чипов соответствует требуемому стандарту.

Для читателей BTW план Samsung по DRAM на 2028 год задаёт High NA ясный производственный ориентир. Более крупный фотошаблон живёт по отдельному графику, поэтому производителям чипов не нужно ждать завершения этой работы, чтобы начать использовать новые литографические системы.

За чем следить

Следите за прогрессом Samsung к массовому производству DRAM в 2028 году и за производственными данными, показывающими, какие литографические шаги устраняет High NA. Программу с более крупными шаблонами следует отслеживать отдельно, в частности запланированное на 2031 год пилотное производство и последующий график поставок оборудования.