- 为计算机芯片制造商提供设备的最大供应商 ASML，已将其最新的“高 NA”EUV 光刻系统之一交付给第二家客户。
- 该公司宣布，高 NA 机器已成功制造出 10 纳米特征。
- ASML 的经济利润因美国对中国尖端技术的制裁而受到极大影响。
荷兰半导体设备制造商 ASML 已将其第二台高数值孔径（NA）极紫外（EUV）光刻机交付给一位未公开客户。
第二台“高 NA”EUV 光刻机
ASML，为计算机芯片制造商提供设备的最大供应商，已将其最新的“高 NA”EUV（高数值孔径极紫外）光刻系统之一交付给第二家客户。第二台高 NA 机器的交付表明这项最新技术正在逐步被采用。
光刻系统利用光束来帮助制造芯片电路。ASML 的第一代 EUV 系统目前用于制造智能手机和 AI（人工智能）芯片中的大多数芯片，它利用“极紫外”波长的光来创建设计特征，分辨率小至 13 纳米，比病毒还小。
该公司宣布，高 NA 机器已成功制造出 10 纳米特征。据 ASML 网站称，该机器的理论极限为 8 纳米。
这些机器每台成本约 3.5 亿欧元（3.7 亿美元），预计将推动新一代更小、更快的芯片。
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销售受到制裁影响
这家荷兰半导体制造商很可能需要尽可能多地销售高 NA 机器，因为西方对中国的制裁将在长期内损害 ASML 的业务。ASML 仍然依赖向中国出口设备。
ASML 利润暴跌 40%，原因是芯片制造工具订单减少。这可能是由于中国客户在第四季度抢购以避免即将到来的罚款。
中国科技企业，尤其是华为，正致力于在国内制造高科技工具，这意味着即使美国或荷兰的制裁被取消，ASML 的中国业务也可能受到影响。