ASML и Imec открывают испытательную лабораторию High NA EUV-литографии в Велдховене

ASML, Imec — публичный профиль, сформированный на основе доказательств из статьи, контекста объекта, связей событий и контекста отношений.

ASML открыла испытательную лабораторию для своего оборудования EUV-литографии с высокой числовой апертурой (High NA) совместно с бельгийским исследовательским центром в области чипов Imec. Установка High NA обещает увеличение разрешения до 60 % и должна позволить выпускать более мелкие и быстрые чипы. Это событие подчёркивает центральную роль ASML в развитии полупроводниковых технологий и её постоянные партнёрства с ведущими производителями чипов по всему миру.

НАШЕ МНЕНИЕ
Хотя у ASML есть заказы более чем на дюжину установок, TSMC, её крупнейший клиент по оборудованию EUV, заявил, что ему не нужны установки High NA для чипа A16. Исходя из этого, я сомневаюсь, что у этого нового чипа хорошее будущее. — Jinny Xu, журналистка BTW

ASML, производитель оборудования для полупроводников, объявила в понедельник об открытии новой испытательной лаборатории для своего оборудования EUV-литографии с высокой числовой апертурой (High NA), разработанного совместно с бельгийским исследовательским центром в области чипов Imec. Лаборатория расположена в Велдховене, в Нидерландах, и стала результатом нескольких лет работы; она представляет собой высокий уровень технологии производства чипов.

Новая возможность для производителей чипов
Передовая лаборатория предоставит ведущим производителям чипов и поставщикам оборудования и материалов возможность поработать с новаторской установкой ASML для EUV-литографии с высокой числовой апертурой (High NA) стоимостью 350 миллионов евро (380 миллионов долларов). Это первая установка такого рода: её разрешение до 60 % выше, чем у предыдущих моделей, и она должна позволить выпускать более мелкие и быстрые чипы для будущих поколений.

Читайте также: AWS уточнила: заказ на передовые чипы NVIDIA не отменён
Читайте также: Кто такой Christophe Fouquet — генеральный директор ASML

Передовые возможности
Новая установка High NA должна выйти в коммерческое производство в 2025–2026 годах. На сегодняшний день ASML поставила только одну другую тестовую машину, которая досталась Intel в США. Intel планирует интегрировать эту установку в свой техпроцесс 14A к 2025 году. Несмотря на это, ASML уже получила заказы более чем на дюжину таких передовых машин.

Лидерство на рынке
ASML доминирует на рынке литографического оборудования — ключевого этапа производства чипов, на котором с помощью пучков света создаются схемы чипов. В настоящее время лишь узкий круг производителей — TSMC, Samsung, Intel и специалисты по памяти SK Hynix и Samsung — способен использовать существующее поколение установок экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии ASML. Хотя компания получила заказы более чем на дюжину таких передовых машин, её крупнейший клиент TSMC заявил, что ему не нужны установки High NA для его чипов A16, производство которых должно начаться в 2025 году.